RFL-A12000D
高功率光纖輸出半導體激光器主要應用于淬火、熔覆領域。
在淬火應用中,激光是金屬部件進行淬火的理想熱源,可以在保持基材的冶金性能不變的前提下提升零件的耐磨性。激光可以在不使得其他區域鐵素體發生相變的情況下,靈活地實現部分區域淬火。感應淬火法則無法實現區域性硬化。激光淬火一般不會引起材料翹曲,不需要通過額外的辦法來校正工件的變形。
激光熔覆是一種增材制造工藝,可將材料熔化在基底上。激光熔覆工藝通常用于在重工業中使用的零部件上,激光熔覆能制造更好的新表面層,以及修復因反復使用而磨損的表面。激光束在工件表面上生成一個熔池,涂層材料同時被填充到熔池內。其產生的涂層與基體材料為金相結合,比用熱噴涂法更牢固。另外,激光熔覆與鍍鉻相比,對身體幾乎沒有危害。
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技術優勢
光學特性
- 額定輸出功率(W):12000
- 工作模式:連續/調制
- 功率調節范圍(%):10~100
- 中心波長(nm):915±10
- 輸出功率不穩度:<3%
- 調制頻率(Hz):50~5k
- 紅光指示輸出功率(mW):0.25~1
輸出特性
- 輸出頭類型:IQD
- 光纖芯徑(μm):1000
- 光束發散半角(rad):0.22
- 輸出光纖長度(m):20
電控特性
- 工作電壓:?三相380VAC±10%、50/60Hz交流電
- 控制方式:上位機/AD
其他特性
- 外觀尺寸(W*H*D):1199×968×1159
- 冷卻方式:水冷
RFL-A12000D 的應用
- 淬火
- 熔覆